P-MEC JAPAN
同時開催 CPhI JAPAN 2010 第9回 国際医薬品原料・中間体展 ICSE JAPAN 2010 第6回 製薬業界受託サービスエキスポ
P-MEC JAPAN 2010 第3回 原薬・中間体 機器/装置展 2010年4月21日(水)、22日(木)、23日(金) 東京ビッグサイト 東5・6ホール
 
開催概要

P-MECとは、Pharmaceutical Machinery & Equipment Convention の略称で装置・機器を主な出展対象として、2005年からCPhI World Wideの併催展としてスタートし、今日では中国、インドにおいてもCPhIの同時開催展としてサテライト化されています。
一方、日本では、2002年にCPhI JAPANが開催されて以来、業界のサプライヤー、バイヤーからの原薬、中間体分野における機器、装置に対する展示要請が増加しており、こうした要請に応える形で、2008年4月より、「CPhI JAPAN」「ICSE JAPAN」の併催展として開催、2009年には、製薬・化学メーカーからの強い要望を受け、製造機器・設備ゾーンを新設しました。


名称

P-MEC JAPAN 2010 (第3回 原薬・中間体 機器/装置展)

併催

CPhI JAPAN 2010 (第9回 国際医薬品原料・中間体展)
ICSE JAPAN 2010 (第6回 製薬業界受託サービスエキスポ)

会議

基調講演・コンファレンス・セミナー

会期

2010年4月21日(水)、22日(木)、23日(金)
10:00 ~ 17:00

会場

東京ビッグサイト 東5・6ホール

主催

化学工業日報社、CMPビジネスメディア、CMP Information

出展社数

450社(予定) *併催展との合計

来場者数

15,000人(予定) *併催展との合計

出展品目
原薬・中間体分野に特化した日本唯一の国際テクノロジー展
【反応機器(装置)】

マルチ合成装置、マイクロリアクター

【分解・蒸留・分離・濃縮装置】

分解装置、蒸留装置、遠心分離装置、透析装置、純水製造装置、濃縮装置、固相・液相・超臨界抽出装置

【電気化学分析装置】

電気滴定装置、ポーラログラフ、電解・電量分析装置、導電率計、pH計、電極式濃度測定装置

【光分析装置】

紫外・可視分光光度計、赤外分光光度計(分散形、フーリエ変換形)、近赤外分光光度計、光電測光式発光分光分析装置、誘導結合高周波プラズマ発光分析装置、原子吸光分析装置(フレーム方式、電気加熱方式)、蛍光光度分析装置、ラマン分光光度計、施(偏)光分散計、光電光度計・比色計、濁度計、光散乱光度計、色彩測定器、屈折計、デンシトメータ、化学発光分析装置など

【電磁気分析装置】

X線回析装置、蛍光X線分析装置、X線吸収分析装置、電子プローブX線マイクロアナライザ、X線応力測定装置、質量分析装置(二重収束形、四重極形、GC/MS、LC/MS、ICP/MS)、二次イオン質量分析装置、飛行時間型質量分析装置、核磁気共鳴装置、フーリエ変換型核磁気共鳴装置、電子スピン共鳴装置、電子分光装置、透過電子顕微鏡、走査電子顕微鏡、走査トンネル顕微鏡、磁化率測定装置、内部摩擦測定装置など

【分離分析装置】

ガスクロマトグラフ、高速液体クロマトグラフ、専用液体クロマトグラフ、カラムクロマトグラフ、イオンクロマトグラフ、薄層クロマトグラフ、超臨界流体クロマトグラフ、電気泳動装置など

【熱分析・熱測定装置】

熱重量測定装置、示差熱分析装置、示差走査熱量計、熱膨張及び熱機械的分析装置、熱電導率計、熱量計など

【専用測定装置】

有機微量元素分析装置及びガス分析装置、水分測定装置、密度測定装置、粘度・粘弾性測定装置、表面積・比表面積測定装置、粒径・粒度分布測定装置

【製造機器・設備】

反応釜、ろ過器、遠心分離機、粉砕機、乾燥機、攪拌機、コンテイナーなど

【その他】

冷却機器・装置、分析用天秤、におい識別装置など